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仪器简介： PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。

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PLD脉冲激光沉积系统-SVT

美国SVT公司PLD脉冲激光沉积系统用于沉积金属薄膜，氧化物薄膜，多元素材料薄膜的脉冲激光沉积系统，可以与多种薄膜制备设备连用。

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Pioneer 180 MAPLE PLD System激光脉冲沉积(PLD)Neocera

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仪器简介：脉冲激光沉积（PLD）简介美国PVD公司为客户提供优质的薄膜沉积设备，特别是大面积脉冲激光沉积(PLD)系统，还包括沉积元件如靶材操纵器和智能视窗等，另外可为客户订制激光分子束外延设备

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脉冲激光沉积系统Pioneer 120 PLD System

该系统软件(Windows 7, LabView 2013)控制基材加热器，目标转，过程压力，系统泵和激光触发。产品特点独立的交钥匙PLD系统。外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。纳米级薄膜的沉积。

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脉冲激光沉积系统Pioneer 180 PLD System

•使用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。•氧化膜沉积的氧相容性。•升级:离子辅助PLD，组合型PLD，目标衬底负载锁定。•其他沉积源:脉冲电子沉积(PED)，射频/直流溅射，直流离子枪。

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脉冲激光沉积系统180 Laser MBE/PLD

独立的MAPLE PLD系统; 有机和聚合物薄膜的沉积; 在同一室的附加沉积源(可选): 脉冲电子沉积(PED)，射频/直流溅射和直流离子源; Load-lockable衬底阶段; 与XPS分析系统集成

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